จีน ผงนาโนซิงค์ออกไซด์เจืออะลูมิเนียม ผู้ผลิต ผู้จำหน่าย โรงงาน

นาโนเทคโนโลยีได้ปฏิวัติอุตสาหกรรมวัสดุ และการเกิดขึ้นของอนุภาคนาโนได้เพิ่มขีดความสามารถของตนอีกด้วย อนุภาคนาโนมีขนาดเล็ก แต่มีคุณสมบัติพิเศษที่แตกต่างจากอนุภาคขนาดใหญ่ บางทีลักษณะที่น่าสนใจที่สุดอย่างหนึ่งของอนุภาคนาโนก็คือความสามารถในการแสดงคุณสมบัติทางแสง ในบทความนี้ เราจะพูดถึงอนุภาคนาโนที่มีคุณสมบัติทางแสงและการประยุกต์ใช้ที่เป็นไปได้ ที่ SAT NANO เรานำเสนออนุภาคนาโนคุณภาพสูงที่ผลิตขึ้นด้วยมาตรฐานสูงสุด

กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบสแกนสามารถแบ่งออกเป็นประเภทการปล่อยอิเล็กตรอนความร้อนและประเภทการปล่อยฟิลด์ตามวิธีการสร้างอิเล็กตรอนที่แตกต่างกัน เส้นใยที่ใช้สำหรับประเภทการปล่อยอิเล็กตรอนความร้อนส่วนใหญ่เป็นกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนอิเล็กตรอนทังสเตน ประเภทการปล่อยฟิลด์ ความแตกต่างระหว่างการปล่อยทุ่งร้อนและการปล่อยสนามเย็น

การวิเคราะห์องค์ประกอบรวมทางเคมี (ICP-MS) เป็นเทคโนโลยีเครื่องมือที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในด้านการวิเคราะห์ทางเคมี ได้รับการพัฒนาโดยใช้เทคโนโลยีพลาสมาแมสสเปกโตรมิเตอร์ (ICP) แบบเหนี่ยวนำควบคู่กัน

เนื่องจากคุณสมบัติทางกายภาพที่สำคัญของผง พื้นที่ผิวจำเพาะจึงหมายถึงพื้นที่ผิวทั้งหมดต่อหน่วยมวลของผงออกไซด์ และขนาดของมันก็ได้รับอิทธิพลจากปัจจัยต่างๆ ประการแรก ขนาดอนุภาคเป็นปัจจัยสำคัญที่ส่งผลต่อพื้นที่ผิวจำเพาะของผง ยิ่งอนุภาคมีขนาดเล็ก พื้นที่ผิวจำเพาะก็จะยิ่งใหญ่ขึ้น เนื่องจากยิ่งขนาดอนุภาคเล็กลง พื้นที่ผิวของแต่ละอนุภาคก็จะยิ่งใหญ่ขึ้น จึงเป็นการเพิ่มพื้นที่ผิวทั้งหมดต่อหน่วยมวลของผง

เนื่องจากเป็นหนึ่งในพารามิเตอร์การกำหนดลักษณะที่สำคัญที่สุดของผงนาโน ขนาดอนุภาคจึงส่งผลโดยตรงต่อคุณสมบัติทางกายภาพและทางเคมีของผง จากนั้นจึงส่งผลต่อประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์ขั้นสุดท้าย ดังนั้นเทคโนโลยีการตรวจจับจึงเป็นเครื่องมือสำคัญสำหรับการผลิตทางอุตสาหกรรมและการจัดการคุณภาพ และมีบทบาทที่ไม่อาจทดแทนได้ในการปรับปรุงคุณภาพผลิตภัณฑ์ ลดต้นทุนการผลิต และรับประกันความปลอดภัยและประสิทธิผลของผลิตภัณฑ์ บทความนี้จะเริ่มต้นจากหลักการและเปรียบเทียบวิธีการทั่วไปสามวิธีในการตรวจจับขนาดอนุภาคผง ได้แก่ กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน การวิเคราะห์ขนาดอนุภาคด้วยเลเซอร์ และวิธีการความกว้างของเส้นเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์ และวิเคราะห์ข้อดี ข้อเสีย และการบังคับใช้วิธีทดสอบขนาดอนุภาคต่างๆ .

การศึกษาที่ก้าวล้ำที่ตีพิมพ์ในวัสดุการทำงานขั้นสูงเมื่อวันที่ 16 กุมภาพันธ์ 2568 ได้เปิดตัวฟิล์มบาง MXENE ที่ได้รับการปกป้องจากกราฟีนออกไซด์ลดลง (RGO) เรียกว่า RGM ภาพยนตร์นวัตกรรมนี้มีความสามารถในการถ่ายโอนค่าใช้จ่ายที่ยอดเยี่ยมและความสามารถที่น่าทึ่งในการรักษาความมั่นคงในอากาศโดยรอบ ชั้นป้องกัน RGO ได้อย่างมีประสิทธิภาพป้องกันชั้นนำของ MXENE จากการเกิดออกซิเดชันของอากาศเพิ่มความเสถียรของอากาศอย่างมีนัยสำคัญ หลังจากการสัมผัสกับอากาศ 40 วันที่ 25 ° C และความชื้นสัมพัทธ์ 40% ความต้านทานต่อเมมเบรนของฟิล์ม RGM (135.9 ±2.3Ω/sq - 312.6 ±4.5Ω/sq) แสดงการขยายเล็กน้อยเมื่อเทียบกับฟิล์ม MXENE บริสุทธิ์ (145.0 ±2.3Ω/sq - 2,152.8 ± 6.8